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    PVD和PECVD技術為具有高刷新率的超高分辨率顯示生產更快的晶體管 • 新一代系統將提高使用大尺寸玻璃的制造成本效益

    2012年10月31日，應用材料公司宣布推出全新的PVD^*和PECVD^*技術，用于制造下一世代的超高分辨率(UHD)電視以及移動設備的高像素密度屏幕。實現這一重大變革的關鍵在于這兩項技術使用了全新的金屬氧化物和低溫多晶硅材料，從而生產出更快、更小的薄膜晶體管(TFT)，用于LCD和OLED技術。Applied AKT-PiVot™ PVD和Applied AKT-PX PECVD薄膜沉積系統為顯示制造商提供了高性能和經濟有效的解決方案，幫助其實現這些先進材料在規模化生產中的應用。

    應用材料公司集團副總裁兼顯示事業部總經理Tom Edman表示：“在薄膜晶體管技術發展的推動下，顯示行業正在經歷著過去20年以來最重大的技術變革。應用材料公司成功開發出了行之有效的系統組合，幫助客戶在這些新型薄膜的應用方面實現技術飛躍。客戶們已經在我們的系統上取得了卓越的成果，我們也已經收到來自各大顯示制造企業的多份訂單。”

    對于基于金屬氧化物的薄膜晶體管，應用材料公司的AKT-PiVot PVD系統采用專有旋轉陰極技術沉積具有高電子遷移率的新型材料銦鎵鋅氧化物（IGZO），以形成晶體管通道。PiVot系統為顯示行業帶來了可靠的IGZO解決方案，能夠克服有礙顯示質量的“霧化效應”。正是這個問題妨礙了金屬氧化物技術在液晶顯示方面的廣泛應用。此外，通過PiVot系統沉積的IGZO薄膜還具有突出的薄膜晶體管穩定性，有望為OLED提供金屬氧化物背板，從而大幅降低成本，為制造出色彩亮麗、經濟實惠的大尺寸OLED電視創造條件。

    雖然低溫多晶硅技術已被證實是制造移動LCD和OLED設備最高分辨率顯示的有效方法，但在規模效益和單位面積生產成本方面卻不盡人意。基于應用材料公司AKT-PX PECVD系列系統的全新技術延伸，能夠在1.6至5.7平方米的玻璃基板上沉積出高度均勻的低溫多晶硅薄膜。這類尺寸更大的基板使顯示制造商可以大幅提高產量、降低成本，實現規模經濟效益，把大尺寸LCD電視帶給全球數億消費者。該系統也有助于加快移動設備和電視領域低溫多晶硅技術向更大屏幕尺寸的轉型。