3月21日，陶氏化學公司宣布，電子材料全球研發中心落戶韓國首爾，該中心著重推動顯示器和半導體相關應用的技術進步，這也是陶氏在亞洲的重要投資舉措之一，將極大提升公司為該地區的電子材料產業客戶服務的能力。
陶氏首爾技術中心坐落在Hwaseong， Gyeonggi-do，這里是為半導體和顯示器技術領域客戶服務的重要戰略位置。該中心共五層，占地23700平方米，預計聘用約300人。
近十年來，陶氏在韓國投資超過4億美元，旨在建立半導體、顯示器和LED的先進生產基地，并拓展電子材料領域的業務。
陶氏化學公司執行副總裁、高新材料事業部總裁兼首席執行官Jerome A. Peribere表示：“這項投資意義重大，因為陶氏一流的技術使電子產品更小巧、運行更迅捷、性能更強大，而且韓國是電子產品市場的全球領導者。這一新的研發中心使我們能夠為快速發展的電子產品產業提供更多解決方案，從而更好地服務于韓國乃至全球的客戶?！?/P>
陶氏首爾技術中心的研發重點領域包括光刻機、有機發光二極管（OLED）、顯示材料、高級芯片封裝，全力支持陶氏的業務增長。該中心將成為陶氏OLED研發的全球中心所在，并配備尼康193納米沉浸式掃描儀和300納米機臺設備，陶氏化學電子材料業務部門因此成為世界上唯一一個在韓國擁有193i應用開發設備的抗光阻供應商。陶氏在韓國天安的設施還擁有一部193納米的干式掃描儀，這樣的投資組合使陶氏極大縮短了產品開發周期和制造時間，從而滿足客戶的更高要求。
陶氏化學電子材料業務部門集團副總裁、陶氏化學韓國總經理Dominic Yang表示：“從銷售到生產再到研發，陶氏現在都已經全面壯大起來。我們為陶氏專家、客戶和研發伙伴之間更密切的合作鋪平了道路?！?/P>
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