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　　　  在2011國際平板顯示產業高峰論壇（FPD International CHINA 2011/Beijing Summit）第一天下午的技術演講上，佳能液晶產品銷售技術課課長勝永智浩以“液晶曝光裝置的尖端技術”為題，介紹了用于大尺寸液晶面板生產的曝光裝置最新動向。

　　在演講中，勝永首先介紹了佳能在中國的業務體制。該公司的中國業務中心位于上海，設置了8個服務網點。共有100多名營業和服務人員應對中國客戶的需求。該公司從2004年度開始在中國銷售液晶面板曝光裝置。其“MPA（Mirror Projection Mask Aligner）系列”曝光裝置現已供貨了支持第4.5代、第5代、第6代以及第8代的裝置。其中，用于第6代和第8代等大尺寸玻璃基板的裝置是“MPAsp（Mirror Projection Mask Aligner Smart Platform）系列”的高性能產品，主要用來應對高代線的需求。

　　大尺寸面板最適合反光鏡掃描方式

　　利用紫外線向玻璃基板上轉印圖案的曝光裝置大致有三種方式。它們分別是緊密貼合掩模和基板來轉印圖案的的近接方式；固定掩模和基板、運行二者之間的光學系統來轉印圖案的步進方式；以及轉動掩模和基板、同時運行二者之間的光學系統來轉印圖案的掃描方式。對于液晶面板曝光裝置，其分辨率、生產性、以及支持的玻璃基板的尺寸和分辨率需要合乎生產的液晶面板的規格。在對大尺寸液晶面板生產要求的技術需求進行調查后，佳能認為掃描方式最為合適，因此開發出了光學系統采用反光鏡的曝光裝置。

　　目前佳能公司的液晶面板曝光裝置的分辨率為3μｍ。該公司計劃2011年以后，將支持所有世代玻璃基板的裝置的分辨率均提高至2.5μm。另外，“考慮到將來還會要求2.5μm以下的分辨率，因此預定今后進一步提高分辨率”（勝永）。

　　不過，曝光裝置需要的不僅僅是提高分辨率。除分辨率外，還需要提高重疊精度和吞吐量。為了同時提高這些性能，該公司開發了可提高構成曝光裝置的照明系統、掩模臺、投影光學系統以及基板臺性能的技術。由此，第8代基板也“同時實現了2.5μm以下的分辨率、0.5μｍ～0.6μｍ的重疊精度以及較最初的第8代裝置提高30％的吞吐量”（勝永）。

　　計劃降低成本并提高環保性等

　　最后，勝永就今后的舉措提出了4個目標。第一是高精細化方面的舉措。該公司將以2μm的分辨率為目標推進技術開發。第二是可應對嚴峻價格競爭的低成本化舉措。計劃從設計階段開始著手推進低成本化，并縮短開發周期。第三是設計環保型裝置。目標是降低耗電量、削減排熱量等。第四是支持新工藝。將設計支持柔性液晶工藝以及取得進步的低溫多晶硅工藝等的裝置。