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　　近日，捷佳偉創五合一團簇式鈣鈦礦疊層真空鍍膜裝備成功下線，并且獲得客戶FAT驗收通過后順利出貨。五合一團簇式鈣鈦礦疊層真空鍍膜裝備將對薄膜制備領域產生重大影響。這項革命性的技術整合了RPD、多源蒸鍍、RF濺射、脈沖直流濺射和直流濺射等多種技術，能夠在真空環境中連續沉積各種薄膜，包括TCO（ITO、IWO、ICO、IZO）、Cu、SnO2和NiO等，同時保持界面間的最佳特性，為材料科學、電子工程和光電子學等領域的研究提供了一個強大的裝備支撐。

　　五合一團簇式鈣鈦礦疊層真空鍍膜裝備具備以下特點：

　　多技術合一

　　該款設備將RPD、多源蒸鍍、RF濺射、脈沖直流濺射和直流濺射等多種技術相結合，實現了真空環境中的薄膜連續沉積。這項創新性技術可應用于多種領域，為材料科學、電子工程和光電子學等領域的研究提供了全新可能。

　　降低成本

　　該款設備可顯著減少鈣鈦礦電池設備的占地面積、降低資本支出和試驗成本，同時可在保持真空狀態完成多層膜沉積，有效提升鈣鈦礦電池效率。

　　低轟擊高速率特性

　　該款設備中的RPD設備具有離子轟擊小、表面損傷少、沉積速度快、少子壽命長等優勢，RPD設備制備的薄膜致密性更好、導電性更高、透光性更好，對于提升太陽能電池轉換效率具有重要作用。同時，RPD還能夠實現高鍍膜速率和大尺寸薄膜的生產。

　　多功能選項

　　該款設備提供了多種選項，包括各種冷阱、相鄰鍍膜腔工藝氣氛隔絕和加熱器等，使客戶能夠根據其具體需求進行定制配置，有利于嘗試不同的鈣鈦礦薄膜組合。

　　捷佳偉創作為一家專注于光伏電池設備的技術公司，在該領域擁有多年的技術積累，公司致力于為客戶提供高質量的光伏電池設備和整線解決方案。公司通過整合人才與技術，并與多個科研機構和產業合作伙伴緊密合作，不斷推動薄膜技術的創新和應用。五合一團簇式鈣鈦礦疊層真空鍍膜裝備的推出將進一步鞏固公司的技術領先地位，持續推動光伏高效技術的進步。