2021年，晶洲裝備迎來新的家園，站在新的高度，踏上了新的征程。新廠竣工伊始，晶洲接獲某大客戶大尺寸顯示基地示范工廠G8.5刻蝕設(shè)備訂單，歷時130余天，G8.5刻蝕設(shè)備較之標準生產(chǎn)周期提前50天超前完成生產(chǎn)，順利下線。
濕法刻蝕設(shè)備主要應(yīng)用于平板顯示制程的陣列(Array)段，其原理是利用化學(xué)的方法對經(jīng)過曝光與顯影后的基板表面金屬膜層進行均勻刻蝕，進而形成光刻定義的電路圖，是圖形化工藝的關(guān)鍵制程，一向由進口設(shè)備商壟斷，國內(nèi)廠商少有涉及。
2020年，晶洲裝備G8.5大世代設(shè)備技術(shù)突破顯影、刻蝕、剝膜等一系列主工藝設(shè)備形成批量訂單，并陸續(xù)交付，全面覆蓋了ITO、IGZO、Ag、Mo、Al、Cu等各種膜材的刻蝕工藝。
來源： 晶洲裝備
關(guān)注我們
公眾號：china_tp
微信名稱：亞威資訊
顯示行業(yè)頂級新媒體
掃一掃即可關(guān)注我們
產(chǎn)品供求| 雜志期刊| 協(xié)會服務(wù)| 專題集| 關(guān)于我們|網(wǎng)站地圖|版權(quán)聲明| 廣告服務(wù)
Copyright © 2018 深圳市美嘉投資有限公司. All Rights Reserved 版權(quán)所有 粵ICP備12048185號-1
中華顯示網(wǎng)所載文章、數(shù)據(jù)僅供參考，使用前務(wù)請仔細閱讀法律聲明，風(fēng)險自負。
媒體合作:0755-86149081 廣告咨詢:0755-86149131 Email:314106127@qq.com
