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 　　日立マクセル株式會社（Hitachi Maxell）使用精密電鑄加工技術EF2(Electro Fine Forming）開發出AMOLED蒸鍍用的高精度金屬掩膜版。（EF2為Hitachi Maxell對該技術注冊的商標)

　　近年來智能手機越來越多的采用AMOLED屏幕，為了實現像素高精細化，關鍵的蒸鍍制程必須使用高精度、低熱膨脹系數的金屬Mask。

　　日前，日立マクセル株式會社使用熱膨脹系數小的鐵鎳合金框架，在其上用電鑄技術生長高精度的Mask，開發出一體成型的混合型金屬掩膜版（hybrid mask）。通過EF2技術形成的Mask開口部可以做到400ppi以上的精度，Mask的厚度只有8um。

インバー材フレーム：鐵鎳合金框架

　　EF2高精細マスク：EF2高精度Mask

　　有機ELパネル用ハイブリッドマスク：OLED面板用hybrid mask

　　另外，EF2技術可以在低膨脹系數的鐵鎳合金框架上直接生長Mask，做到Frame和Mask的一體化，既有效的控制住熱膨脹效應，又省掉了傳統FMM中最困難的張網制程，簡化生產流程。目前FMM使用的主流技術為刻蝕后張網，需要將多片um級別精度的Mask tension到Frame框架上，然后通過鐳射焊接進行固定，張網制程不僅對設備有極高的精度要求，還需要對Mask片進行嚴格的要求，以免影響張網后的精度。當EF2技術成熟之后，Frame+Mask的一體成型FMM到貨后將可以直接進入蒸鍍機使用，簡化了面板廠的工藝流程，提升生產效率。混合型金屬掩膜版使用的EF2技術是マクセル與JDI共同開發的，將在2018年秋季向JDI供貨。今后，マクセル將與JDI、蒸鍍機供應商一起，繼續就EF2技術進行開發，直至技術成熟量產。