旭化成E-Materials開發(fā)出了在樹脂薄膜上形成大量間距及高度為數(shù)百nm級凹凸的“納米構(gòu)造薄膜”，并在“FPD International 2010”上進行了展示。用途是作為防反射薄膜。
據(jù)旭化成E-Materials介紹，通過采用納米構(gòu)造，可針對可視光直至紅外線的大范圍波長的光線降低反射率。而采用原來基于多層膜的防反射薄膜時，為了擴大薄膜能夠防止反射的范圍，需要增加膜的層數(shù)，由此會導致成本增加。采用此次的方法，可通過卷對卷式納米壓印技術(shù)連續(xù)生產(chǎn)，能夠削減成本。
對可視光的反射率為0.5％以下。作為基材的樹脂薄膜可使用PET、TAC及PC等。旭化成E-Materials希望能在2010年內(nèi)或2011年初開始樣品供貨。另外，此次利用的納米壓印技術(shù)還應用在了該公司的線柵偏光膜產(chǎn)品上。
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